特許
J-GLOBAL ID:200903052536904811

蒸着装置及び方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-091988
公開番号(公開出願番号):特開2002-285324
出願日: 2001年03月28日
公開日(公表日): 2002年10月03日
要約:
【要約】【課題】 膜の付着効率が低下したり、仕切り弁の動作や、仕切り弁の真空シールなどの信頼性を損なったり、メンテナンス頻度が増加したりするなどの課題を有していた。【解決手段】 真空状態で蒸着を行う反応容器において、真空を保持する常温の外壁9と蒸発源を包みかつ加熱された内壁10とで構成されており、その内壁10を蒸着面近傍まで一体で案内し、かつ内壁10の内部に加熱されたシール部23を作成した仕切り構造である。
請求項(抜粋):
真空で蒸着を行う反応容器が、真空を保持する外壁と、蒸発源を内包する内壁とを有し、前記内壁は蒸着面近傍まで蒸気を案内し、成膜状態と待機状態を切り替える仕切り手段を有したことを特徴とする蒸着装置。
IPC (3件):
C23C 14/24 ,  H01G 4/33 ,  H01G 13/00 391
FI (3件):
C23C 14/24 D ,  H01G 13/00 391 C ,  H01G 4/06 102
Fターム (4件):
4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB00 ,  5E082FG42
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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