特許
J-GLOBAL ID:200903052546531894

外観検査装置およびマスク検査方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 宮崎 昭夫 ,  石橋 政幸 ,  岩田 慎一 ,  緒方 雅昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-002083
公開番号(公開出願番号):特開2005-196471
出願日: 2004年01月07日
公開日(公表日): 2005年07月21日
要約:
【課題】 レチクルの欠陥の検出を高感度で行うことのできる外観検査装置を提供する。【解決手段】 検査対象であるマスクを光学的に走査して入力画像データ5aを出力する画像入力部1と、レチクルのパターンに関する設計データ5bから参照画像データ5cを生成する参照画像生成部2と、参照画像データ5c上で同一形状の領域を探索する探索部3と、入力画像データ5a上の、探索部3で探索された同一形状の領域と対応する領域同士を比較照合する比較部4とを有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
検査対象であるマスクを光学的に走査して実画像データを取得する画像入力部と、 前記マスクのパターンに関する設計データから参照画像データを生成する参照画像生成部と、 前記参照画像生成部で生成された参照画像データ上で、同一形状の領域を探索する探索部と、 前記画像入力部で取得した実画像データ上の、前記探索部で探索された同一形状の領域と対応する領域同士を比較照合する比較部と、を有することを特徴とする外観検査装置。
IPC (5件):
G06T1/00 ,  G01B11/24 ,  G01N21/956 ,  G03F1/08 ,  H01L21/66
FI (7件):
G06T1/00 305A ,  G06T1/00 305D ,  G01N21/956 A ,  G03F1/08 S ,  H01L21/66 J ,  G01B11/24 K ,  G01B11/24 F
Fターム (39件):
2F065AA49 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ38 ,  2F065RR09 ,  2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AC02 ,  2G051EB01 ,  2G051ED01 ,  2G051ED04 ,  2G051ED08 ,  2G051ED11 ,  2H095BD02 ,  2H095BD04 ,  4M106AA09 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB05 ,  5B057DB09 ,  5B057DC32 ,  5B057DC38
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (8件)
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