特許

J-GLOBAL ID：200903052582286251

プラズマ処理装置とプラズマ処理装置用保護膜及びその取付け方法

発明者： 頃安 邦彦 ,  古瀬 宗雄 ,  田村 智行
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-042513
公開番号（公開出願番号）：特開2003-243373
出願日： 2002年02月20日
公開日（公表日）： 2003年08月29日
要約：

【要約】【課題】アース電極として作用させるプラズマ処理室やプラズマ処理室内部品からの異物発生を抑制する。【解決手段】処理室内にプラズマを発生させ、試料を処理するプラズマ処理装置において、アースに接地された金属導電体でなりプラズマ処理室1内でプラズマと接触する面を、比誘電率kεと厚さt(μm)との関係がt/kε<300となる耐プラズマ性高分子材料(保護膜)14,105で被覆する。また、耐プラズマ性且つ吸水性を有する樹脂材料で形成された保護膜105を膨張収縮させて、処理室1内の部品の外面に密着固定する。

請求項（抜粋）：

処理室内にプラズマを発生させ、試料を処理するプラズマ処理装置において、前記処理室内の部品の外面に、耐プラズマ性且つ吸水性を有する樹脂材料で形成された保護膜を膨張収縮させて密着固定し、前記プラズマと前記部品との電気的絶縁を防止したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (2件)：

H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 101 D

Fターム (6件)：

5F004AA15 ,  5F004BA14 ,  5F004BB18 ,  5F004BB30 ,  5F004DA00 ,  5F004DB03

引用特許：

出願人引用 (4件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-232130   出願人：株式会社日立製作所
• ライナー用樹脂成形体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-150137   出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
• プラズマエッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-291350   出願人：住友金属工業株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-296288   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (4件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-296288   出願人：東京エレクトロン株式会社
• ライナー用樹脂成形体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-150137   出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-232130   出願人：株式会社日立製作所
• プラズマエッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-291350   出願人：住友金属工業株式会社