研磨方法及び研磨システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：飯塚雄二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-293161
公開番号（公開出願番号）：特開2000-117635
出願日： 1998年10月15日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】研磨レートの安定性向上を図ること。【解決手段】研磨装置に供給される研磨スラリー中の酸化剤の濃度を測定し、当該濃度が常に適正範囲内に収まるように制御する。

請求項（抜粋）：

酸化剤が添加された研磨スラリーを用い、当該研磨スラリーを再生利用しつつ、研磨装置によって被研磨材を研磨する研磨方法において、前記研磨装置に供給される研磨スラリー中の酸化剤の濃度を測定し、常に適正範囲内の値を維持するように前記酸化剤の濃度を制御することを特徴とする研磨方法。

IPC (3件)：

B24B 57/02 , H01L 21/304 622 , H01L 21/304

FI (3件)：

B24B 57/02 , H01L 21/304 622 D , H01L 21/304 622 E

Fターム (3件)：

3C047AA18 , 3C047AA21 , 3C047GG14

引用特許：

審査官引用 (4件)

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