イオン照射装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-328270
公開番号（公開出願番号）：特開平9-147785
出願日： 1995年11月21日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】ハイブリッドスキャン方式の装置であって、そのイオンビーム走査領域の全域においてほぼ一様に、イオンビーム照射に伴う基板の帯電を抑制することができるイオン照射装置を提供する。【解決手段】リフレクタ電極24を非磁性体で構成し、プラズマシャワー装置30とこのリフレクタ電極24との間に、両者間を結ぶ方向に磁束80を発生させるガイド用コイル76を設けた。このガイド用コイル76は、平面形状が長円形をしており、その中心がリフレクタ電極24内におけるイオンビーム走査領域3のほぼ中心3c上に位置するように、かつその長軸がイオンビーム走査方向Xにほぼ平行になるように配置されている。またこのガイド用コイル76の長軸長は、リフレクタ電極24内におけるイオンビーム走査領域3と同程度以上にしている。

請求項（抜粋）：

イオンビームを一方向に電気的に往復走査すると共に、基板を保持するホルダをイオンビーム走査方向と実質的に直交する方向に機械的に往復走査して、ホルダ上の基板にイオン注入等の処理を施す構成の装置であって、ホルダの上流側近傍に設けられていてイオンビーム走査領域の外側を取り囲む筒状のリフレクタ電極と、イオンビーム走査領域のほぼ中心部の外側に位置していて、プラズマを生成してそれをイオンビーム走査方向に交差する方向からリフレクタ電極内に供給するプラズマシャワー装置と、リフレクタ電極にこのプラズマシャワー装置を基準にして負電圧を印加する直流のリフレクタ電源とを備えるイオン照射装置において、前記リフレクタ電極を非磁性体で構成し、前記プラズマシャワー装置と当該リフレクタ電極との間に、両者間を結ぶ方向に磁束を発生させる長円形または長方形のガイド用コイルであってその長軸長がリフレクタ電極内におけるイオンビーム走査領域と同程度以上のものを、その中心がイオンビーム走査領域のほぼ中心上に位置するように、かつその長軸がイオンビーム走査方向にほぼ平行になるように設けたことを特徴とするイオン照射装置。

IPC (3件)：

H01J 37/317 , C23C 14/48 , H01L 21/265

FI (5件)：

H01J 37/317 A , C23C 14/48 C , H01L 21/265 D , H01L 21/265 N , H01L 21/265 F

引用特許：

出願人引用 (3件)

イオン注入装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-345235 出願人：日新電機株式会社
イオン処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-249805 出願人：日新電機株式会社
イオン処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-016923 出願人：日新電機株式会社

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