特許
J-GLOBAL ID：200903052648506592

パターン形成用組成物、パターン形成材料、及びパターン形成装置並びにパターン形成方法

発明者：
吉村 耕作

吉村 耕作 について

, 
佐藤 守正

佐藤 守正 について

, 
松本 浩隆

松本 浩隆 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-329539
公開番号（公開出願番号）：特開2006-139136
出願日： 2004年11月12日
公開日（公表日）： 2006年06月01日
要約：
【課題】高感度であり、感光層の膜厚が均一であり、パターン形成後のパターン形状が平面性に優れ、しかもプリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れるパターン形成材料及びパターン形成後のパターン形状が良好な形状となるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、連鎖移動可能な置換基を複数有する連鎖移動化合物、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤とを含有することを特徴とするパターン形成材料である。該パターン形成材料を備えたパターン形成装置である。該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。前記連鎖移動可能な置換基として、メルカプト基を複数有する連鎖移動化合物を用いることによって、パターン形成材料の感度がさらに向上する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
連鎖移動可能な置換基を複数有する連鎖移動化合物、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含有するパターン形成用組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ,  C08F 2/38 ,  G03F 7/031
FI (5件)：
G03F7/004 503Z ,  G03F7/004 502 ,  G03F7/004 512 ,  C08F2/38 ,  G03F7/031
Fターム (47件)：
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA14 ,  2H025AA18 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025CA00 ,  2H025CA20 ,  2H025CA28 ,  2H025CA31 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CC01 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J011AC04 ,  4J011CA01 ,  4J011NB02 ,  4J011NB04 ,  4J011PA69 ,  4J011PB40 ,  4J011PC02 ,  4J011SA65 ,  4J011SA78 ,  4J011UA01 ,  4J011WA01 ,  5E339AB02 ,  5E339BC02 ,  5E339BD11 ,  5E339BE13 ,  5E339CC01 ,  5E339CC02 ,  5E339CD01 ,  5E339CE11 ,  5E339CE14 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339CG04 ,  5E339DD03 ,  5E339GG01 ,  5E339GG10
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM