特許
J-GLOBAL ID:200903052699386842
表面汚染除去のための組成物、気泡および方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (4件):
志賀 正武
, 渡邊 隆
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-520725
公開番号(公開出願番号):特表2005-537462
出願日: 2003年07月04日
公開日(公表日): 2005年12月08日
要約:
本発明は、表面の汚染除去、剥離または脱脂が可能なゲル化された水性気泡を得るための組成物に関する。本発明の組成物は、1種またはそれ以上の界面活性剤、1種またはそれ以上の酸性または塩基性反応剤およびゲル化剤を含む。該組成物から得られた汚染除去の気泡は、長い寿命、一般的に1〜10時間を有し、表面への引き延ばされた作用時間および高い汚染除去効果を確実にする。該気泡は、近付き易い表面上に単に充満させるか、または単にスプレーすることによって、規模が大きく、複雑な形状の、近付き難い設備から放射能を除去するのに使用され得る。
請求項(抜粋):
溶液の1リットルあたり、
0.2〜2重量%の1種の起泡性有機界面活性剤または複数の起泡性界面活性剤の混合物;
0.1〜1.5重量%のゲル化剤および、任意に;
0.2〜7モルの放射性汚染除去用の1種の無機の酸または塩基あるいは放射性汚染除去用の複数の無機の酸または塩基の混合物
を含む水溶液の、表面の放射性汚染除去の方法における使用。
IPC (8件):
G21F9/28
, C11D1/75
, C11D1/92
, C11D3/02
, C11D3/10
, C11D3/20
, C11D17/00
, G21F9/30
FI (9件):
G21F9/28 525A
, G21F9/28 525B
, C11D1/75
, C11D1/92
, C11D3/02
, C11D3/10
, C11D3/20
, C11D17/00
, G21F9/30 561F
Fターム (13件):
4H003AC05
, 4H003AC15
, 4H003AD05
, 4H003DA09
, 4H003DA12
, 4H003DA13
, 4H003DB01
, 4H003EA03
, 4H003EA04
, 4H003EA16
, 4H003EA21
, 4H003EB41
, 4H003FA18
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (9件)
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