レジスト組成物用ベースポリマー並びにレジスト材料及びパターン形成方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-298530
公開番号（公開出願番号）：特開2001-114825
出願日： 1999年10月20日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
要約：

【要約】【解決手段】下記一般式(1)で表わされる繰り返し単位を含むことを特徴とする化学増幅ネガ型レジスト用ベースポリマー。【化1】(式中、R<SP>1</SP>は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基であって、酸素原子に直結した炭素原子が一級或いは二級であり、R<SP>2</SP>は水素原子、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基である。m、nは0<m<5、0<n<5である。)【効果】本発明の化学増幅ネガ型レジスト材料は、架橋効率が高く、感度が高いものである。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表わされる繰り返し単位を含むことを特徴とする化学増幅ネガ型レジスト用ベースポリマー。【化1】(式中、R<SP>1</SP>は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基であって、酸素原子に直結した炭素原子が一級或いは二級であり、R<SP>2</SP>は水素原子、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基である。m、nは0<m<5、0<n<5である。)

IPC (7件)：

C08F 12/22 , C08F 8/00 , C08F297/02 , C08L 25/18 , C08L 53/00 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (7件)：

C08F 12/22 , C08F 8/00 , C08F297/02 , C08L 25/18 , C08L 53/00 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (113件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC03 , 2H025CC17 , 2H025FA12 , 4J002BC121 , 4J002BN201 , 4J002BP031 , 4J002CH052 , 4J002DF008 , 4J002EJ067 , 4J002EN028 , 4J002EN038 , 4J002EN048 , 4J002EN068 , 4J002EN108 , 4J002EN118 , 4J002EN127 , 4J002EN128 , 4J002EP018 , 4J002ES008 , 4J002ET017 , 4J002EU018 , 4J002EU028 , 4J002EU038 , 4J002EU048 , 4J002EU058 , 4J002EU078 , 4J002EU108 , 4J002EU118 , 4J002EU128 , 4J002EU138 , 4J002EU148 , 4J002EU187 , 4J002EU208 , 4J002EU218 , 4J002EU228 , 4J002EU238 , 4J002EV216 , 4J002EV236 , 4J002EV238 , 4J002EV246 , 4J002EV296 , 4J002EV328 , 4J002FD142 , 4J002FD147 , 4J002FD156 , 4J002FD158 , 4J002FD310 , 4J002GP03 , 4J002HA05 , 4J026HA06 , 4J026HA26 , 4J026HA32 , 4J026HA39 , 4J026HA49 , 4J026HB06 , 4J026HB26 , 4J026HB32 , 4J026HB39 , 4J026HB43 , 4J026HE05 , 4J100AB02R , 4J100AB03R , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AB07S , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA04P , 4J100BA04Q , 4J100BA04S , 4J100BA05P , 4J100BA05Q , 4J100BA05S , 4J100BA06P , 4J100BA06Q , 4J100BA06S , 4J100BA76P , 4J100BA76Q , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100CA31 , 4J100DA39 , 4J100FA08 , 4J100FA19 , 4J100HA53 , 4J100HB43 , 4J100HC09 , 4J100HC43 , 4J100HC47 , 4J100HC57 , 4J100HC63 , 4J100HC64 , 4J100HC69 , 4J100HC71 , 4J100HC72 , 4J100HG01 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

新規なポリマー及びそれを含有するフォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-281009 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
酸に不安定な保護基を有するフェノール樹脂
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-006982 出願人：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
化学増幅フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-120452 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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