フロスト面を有する基板を用いた核酸プローブアレイ

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-304118
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107086
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：

【要約】【課題】核酸プローブアレイにおける各スポット当りのDNAプローブ固相化量を増大して、検出感度を高めること。【解決手段】固相担体と、該固相担体表面の少なくとも核酸プローブを固相化する領域に形成されたフロスト面と、該フロスト面に固相化された核酸プローブとを具備することを特徴とする核酸プローブアレイ。

請求項（抜粋）：

非浸透性の固相担体と、該固相担体表面の少なくとも核酸プローブを固相化する領域に形成された略均一な微小部分からなるフロスト面と、該フロスト面に所要濃度でスポット状に固相化された核酸プローブとを具備することを特徴とする核酸プローブアレイ。

IPC (4件)：

G01N 33/53 , C12M 1/00 , C12N 15/09 ZNA , G01N 37/00 102

FI (4件)：

G01N 33/53 M , C12M 1/00 A , G01N 37/00 102 , C12N 15/00 ZNA F

Fターム (9件)：

4B024AA11 , 4B024AA20 , 4B024CA09 , 4B024HA14 , 4B029AA07 , 4B029AA23 , 4B029BB20 , 4B029CC08 , 4B029FA12

引用特許：

審査官引用 (4件)

化学修飾を施した基体およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-320945 出願人：東洋鋼鈑株式会社, 高橋浩二郎, 株式会社日本パーカーライジング広島工場
半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-034501 出願人：セイコーエプソン株式会社
生化学解析用ユニットおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-174596 出願人：富士写真フイルム株式会社

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