特許
J-GLOBAL ID：200903052894146279
熱現像感光材料および画像形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-127585
公開番号（公開出願番号）：特開2001-027790
出願日： 2000年04月27日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：
【要約】【課題】 感度、Dmaxが高く、超硬調であり、さらに画質が良好で、生保存性に優れた熱現像感光材料および画像形成方法を提供すること。【解決手段】 一般式(H-1)、(H-2)、(H-3)または(H-4)で表されるヒドラジン誘導体の少なくとも1種を含有することを特徴とする熱現像感光材料。【化1】【化2】【化3】【化4】
請求項（抜粋）：
一般式(H-1)、(H-2)、(H-3)または(H-4)で表されるヒドラジン誘導体の少なくとも1種を含有することを特徴とする熱現像感光材料。【化1】(R11はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。R12はヘテロ環基、アルケニル基またはアミノ基を表す。Xは酸素原子または硫黄原子を表し、A1、A2はともに水素原子或いは一方が水素原子で他方がアルキルスルホニル基、オキザリル基又はアシル基を表す。)【化2】(R21は置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。R22は水素原子、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を表す。A1、A2はともに水素原子或いは一方が水素原子で他方がアルキルスルホニル基、オキザリル基又はアシル基を表す。)【化3】(G31、G32は-(CO)p-基、-C(=S)-、スルホニル基、スルホキシ基、-P(=O)R33-基又はイミノメチレン基を表し、pは1又は2の整数を表し、R33はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基、アミノ基を表す。R31、R32はアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基を表す。但し、G31がスルホニル基のとき、G32はカルボニル基ではない。A1、A2はともに水素原子或いは一方が水素原子で他方がアルキルスルホニル基、オキザリル基又はアシル基を表す。)【化4】(R41は水素原子または一価の置換基を表し、A1、A2はともに水素原子或いは一方が水素原子で他方がアルキルスルホニル基、オキザリル基又はアシル基を表す。)
IPC (3件)：
G03C 1/498 502
, G03C 1/498 501
, G03C 5/08 351
G03C 1/498 502
, G03C 1/498 501
, G03C 5/08 351
2H123AB00
, 2H123AB03
, 2H123AB23
, 2H123AB28
, 2H123BB00
, 2H123BB02
, 2H123BB31
, 2H123CA00
, 2H123CA22
, 2H123CB00
, 2H123CB03
, 2H123EA07
