特許
J-GLOBAL ID：200903052955250309
インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法並びにインクジェット式記録装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
栗原 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-234405
公開番号（公開出願番号）：特開2001-105611
出願日： 2000年08月02日
公開日（公表日）： 2001年04月17日
要約：
【要約】【課題】 隔壁の剛性を向上すると共に圧力発生室を高密度に配設することのできるインクジェット式記録ヘッド及びその製造方法並びにインクジェット式記録装置を提供する。【解決手段】 ノズル開口に連通する圧力発生室15が画成される流路形成基板10と、前記圧力発生室15の一部を構成する振動板を介して前記圧力発生室15に対向する領域に設けられて前記圧力発生室15内に圧力変化を生じさせる圧電素子300とを具備するインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記流路形成基板10が、エッチングストップ層11と、その両面に設けられて単結晶シリコンからなるシリコン層12,13とを有し、前記圧力発生室15を前記流路形成基板10を構成する一方のシリコン層12に形成すると共に前記圧力発生室15の底面を前記エッチングストップ層11で構成し、且つ前記圧電素子300を成膜及びリソグラフィ法により形成された膜によって前記流路形成基板10の前記一方のシリコン層12側に設ける。
請求項（抜粋）：
ノズル開口に連通する圧力発生室が画成される流路形成基板と、前記圧力発生室の一部を構成する振動板を介して前記圧力発生室に対向する領域に設けられて前記圧力発生室内に圧力変化を生じさせる圧電素子とを具備するインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記流路形成基板が、エッチングストップ層とその両面に設けられて単結晶シリコンからなるシリコン層とを有し、前記圧力発生室が前記流路形成基板を構成する一方のシリコン層に形成されると共に前記圧力発生室の底面が前記エッチングストップ層で構成され、且つ前記圧電素子が成膜及びリソグラフィ法により形成された膜によって前記流路形成基板の前記一方のシリコン層側に設けられていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
IPC (3件)：
B41J 2/16
, B41J 2/045
, B41J 2/055
B41J 3/04 103 H
, B41J 3/04 103 A
