オーバーヘッドソレノイドアンテナ及びモジュラ閉込めマグネットライナを有する誘導結合されたRFプラズマ反応装置

発明者： , , , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-232236
公開番号（公開出願番号）：特開平11-154600
出願日： 1998年07月14日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】境界条件の変化と無関係に、所望のプロセスやプロセスシーケンスがプラズマプロセスチャンバ内で実行できるような装置を得ること。【解決手段】第一局面によれば、プラズマを収容するためのチャンバ60とチャンバに連通する通路58とを有するプラズマリアクタは、第1モジュールハウジングと、ハウジング内の第一プラズマ閉じ込め磁石とを含む、通路に隣接して置かれた第1取り外し可能プラズマ閉じ込め磁石モジュールによって強化される。それは更に、第2モジュールハウジングと第2プラズマ閉じ込め磁石とを含む、通路に隣接して置かれた第2取り外し可能プラズマ閉じ込め磁石モジュールを含んでもよい。第1と第2のモジュールは通路の対向両側に配置されることが望ましい。冷却装置をチャンバ本体に熱的に結合することによって、第1プラズマ閉じ込め磁石をそのキュリー温度以下に保つことができる。

請求項（抜粋）：

プラズマリアクタであって、プラズマを収容するチャンバと、前記チャンバに連通する通路と、及び前記通路に隣接して置かれた第1の取り外し可能プラズマ閉じ込め磁石モジュールと、を備え、前記第1の磁石モジュールは、第1モジュールハウジング、及び前記ハウジング内に第1プラズマ閉じ込め磁石を備えることを特徴とするプラズマリアクタ。

IPC (3件)：

H05H 1/46 , H01L 21/205 , H01L 21/302

FI (3件)：

H05H 1/46 L , H01L 21/205 , H01L 21/302

引用特許：

出願人引用 (5件)

特表昭63-501514
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-185818 出願人：株式会社日立製作所
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-155153 出願人：アネルバ株式会社

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審査官引用 (6件)

特表昭63-501514
特表昭63-501514
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-185818 出願人：株式会社日立製作所

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