特許

J-GLOBAL ID：200903053019999710

リソグラフィ装置、キャリブレーション方法、デバイス製造方法、およびコンピュータプログラム

発明者： テンペラーズ,ジェフリー,ゴドフリダス,コルネリス ,  ホフマンス,ジェラルドゥス,カロルス,ヨハヌス ,  エステルホルト,レネ ,  ハウシルト,ジャン ,  カトアウ,ハンス,エリック
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-021964
公開番号（公開出願番号）：特開2007-273955
出願日： 2007年01月31日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：

【課題】リソグラフィ装置におけるレベルセンサまたは高さセンサのキャリブレーションのための改良方法を提供する。【解決手段】レベルセンサによって得られる基板位置測定のプロセス依存性を低減させるべく、複数のレベルセンサデバイスにおける測定値間の差を補い、かつ前記基板の特性に対応する、前記レベルセンサシステムについての少なくとも1つのキャリブレーション値を取得することと、少なくとも1つのキャリブレーション値に基づき、前記複数のレベルセンサデバイスを用いて、基板の表面の位置を測定する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基板の表面の位置を当該表面上のそれぞれのポイントで測定するように構成された複数のレベルセンサデバイスを備えるレベルセンサシステムを有するリソグラフィ装置、を用いたデバイス製造方法であって、 前記複数のレベルセンサデバイスにおける測定値間の差を補い、かつ前記基板の特性に対応する、前記レベルセンサシステムについての少なくとも1つのキャリブレーション値を取得することと、 前記少なくとも1つのキャリブレーション値に基づき、前記複数のレベルセンサデバイスを用いて、基板の表面の位置を測定することと、 前記基板の表面の前記測定された位置に基づき、前記基板を露光することと を含む方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G01B 21/00 ,  G01B 11/00

FI (4件)：

H01L21/30 526B ,  G03F7/20 521 ,  G01B21/00 C ,  G01B11/00 G

Fターム (44件)：

2F065AA02 ,  2F065BB01 ,  2F065EE05 ,  2F065FF10 ,  2F065FF49 ,  2F065HH06 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ08 ,  2F065LL00 ,  2F065LL12 ,  2F065LL33 ,  2F065LL41 ,  2F065LL59 ,  2F065NN08 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ42 ,  2F069AA02 ,  2F069BB15 ,  2F069EE01 ,  2F069FF07 ,  2F069GG04 ,  2F069GG06 ,  2F069GG07 ,  2F069GG59 ,  2F069HH09 ,  2F069HH30 ,  2F069NN00 ,  2F069NN16 ,  2F069NN26 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC04 ,  5F046CC05 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB04 ,  5F046DB05 ,  5F046DB06 ,  5F046DB10 ,  5F046DC10 ,  5F046DC12

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 投影露光方法及び面位置検出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-073018   出願人：株式会社ニコン
• 面位置検出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-198648   出願人：キヤノン株式会社
• リソグラフィック投影装置のオフアキシレベリング
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-107375   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ