特許
J-GLOBAL ID：200903053064127634

レーザーアブレーションによる複合酸化物ナノ微結晶薄膜の製造方法

発明者：
佐々木 毅

佐々木 毅 について

, 
尹 鍾源

尹 鍾源 について

, 
越崎 直人

越崎 直人 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-066289
公開番号（公開出願番号）：特開2003-268536
出願日： 2002年03月12日
公開日（公表日）： 2003年09月25日
要約：
【要約】【課題】基板を格別に加熱することなく、ペロブスカイト型構造を有する酸化物薄膜のナノメートルオーダーの微結晶を基板表面上に形成する方法の提供。【解決手段】目的生成物であるABO3の化学組成で示されるペロブスカイト型構造を有する酸化物(A:希土類元素やアルカリ土類金属元素、B:遷移金属元素)と同じ組成比からなるターゲットに、アルゴンガスを存在下させ、50Paから200Paの圧力条件下に、レーザーアブレーション法によりレーザー光を照射して、ターゲット表面に対して垂直であり、off-axisの配置をとる基板上に、原料物質と同じ組成比からなるペロブスカイト型構造を有する酸化物の微結晶薄膜を製造することを特徴とするペロブスカイト型構造を有する酸化物からなる微結晶薄膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
目的生成物であるABO3の化学組成で示されるペロブスカイト型構造を有する酸化物(A:希土類元素やアルカリ土類金属元素、B:遷移金属元素)と同じ組成比からなるターゲットに、アルゴンガスを存在下させ、50Paから200Paの圧力条件下に、レーザーアブレーション法によりレーザー光を照射して、ターゲット表面に対して垂直であり、off-axisの配置をとる基板上に、原料物質と同じ組成比からなるペロブスカイト型構造を有する酸化物の微結晶薄膜を製造することを特徴とするペロブスカイト型構造を有する酸化物からなる微結晶薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
C23C 14/28 ,  C23C 14/08
FI (2件)：
C23C 14/28 ,  C23C 14/08 K
Fターム (6件)：
4K029BA02 ,  4K029BA09 ,  4K029BA17 ,  4K029BA48 ,  4K029BA50 ,  4K029BB07
引用特許：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示
引用文献：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM