特許
J-GLOBAL ID：200903053257743081
基板処理装置及び基板処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
渡邉 勇
, 堀田 信太郎
, 小杉 良二
, 森 友宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-211524
公開番号（公開出願番号）：特開2004-055839
出願日： 2002年07月19日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】洗浄液を飛散させることなく基板の所要領域にのみ供給することができ、これにより、チャンバー内の清浄雰囲気を維持することができると共に、洗浄液の使用量を減少させることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。【解決手段】基板を略水平に保持して回転させる回転保持機構21a,21b,21c,21dと;基板の表面または裏面の少なくとも一方に、基板の内側から周縁部に向かう放射方向に向けて、かつ基板面から45 ゚以下の仰角をもって洗浄液吐出口を開口し、少なくとも0.1m/s以上の流速で洗浄液Lを前記基板の洗浄対象領域Bに向けて供給する洗浄液供給機構23と;を備えた。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基板を略水平に保持して回転させる回転保持機構と;
基板の表面または裏面の少なくとも一方に、基板の内側から周縁部に向かう放射方向に向けて、かつ基板面から45 ゚以下の仰角をもって洗浄液吐出口を開口し、少なくとも0.1m/s以上の流速で洗浄液を前記基板の洗浄対象領域に向けて供給する洗浄液供給機構と;
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/306 J
, H01L21/304 643C
5F043AA26
, 5F043EE40
, 5F043GG02
