薄膜の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小鍜治明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-160021
公開番号（公開出願番号）：特開平8-053763
出願日： 1994年07月12日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】【目的】基板上で均一な特性を有する薄膜を、高い蒸着効率で得ることができる製造方法を提供する。さらに、高い生産性で、高S/Nを有する薄膜型磁気記録媒体を安定に製造する方法を提供する。【構成】真空薄膜形成法によって基板1上に薄膜を形成する際に、基板1と蒸発源8との間に蒸発材料7の融点以上に昇温された発熱体12を配置し、この発熱体12により蒸発原子9を反射し、この反射された蒸発原子9と蒸発源から直接飛来する蒸発原子9とにより薄膜を形成する。

請求項（抜粋）：

真空薄膜形成法によって基板上に薄膜を形成する際に、基板と蒸発源あるいはターゲットとの間に蒸発材料あるいはターゲット材料の融点以上に昇温された発熱体を配置し、この発熱体により蒸発原子あるいはスパッタ原子を反射し、この反射された蒸発原子あるいはスパッタ原子と蒸発源あるいはターゲットから直接飛来する蒸発原子あるいはスパッタ原子とにより薄膜を形成することを特徴とする薄膜の製造方法。

IPC (4件)：

C23C 14/56 , C23C 14/24 , C23C 14/34 , G11B 5/85

引用特許：

審査官引用 (8件)

蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-258684 出願人：コニカ株式会社
特開昭63-259834
特開平2-242579

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