特許
J-GLOBAL ID：200903053310562345

光透過性スタンパ及びその製造方法並びに光メモリ素子の製造方法及び光メモリ素子

発明者：
石原 啓

石原 啓 について

, 
山内 康嗣

山内 康嗣 について


出願人/特許権者：
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について


代理人 (1件)： 真田 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-042362
公開番号（公開出願番号）：特開2002-120286
出願日： 2001年02月19日
公開日（公表日）： 2002年04月23日
要約：
【要約】【課題】 コア層及びクラッド層を樹脂製にし、上記の凹凸パターンを簡易に形成できるようにして、光メモリ素子を容易かつ安価に実現できるようにする場合に、光メモリ素子の製造工程(特に、コア層及びクラッド層を積層する工程)の効率化,簡略化を図りながら、大容量化を実現すべく積層数を増やして多層化できるようにする。【解決手段】 光メモリ素子作製用スタンパを、光透過性の樹脂フィルム12と、樹脂フィルム12上に形成され、表面に凹凸パターンを有する光透過性の硬化性樹脂10とを備えるものとして構成する。
請求項（抜粋）：
光透過性の樹脂フィルムと、前記樹脂フィルム上に形成され、表面に凹凸パターンを有する光透過性の硬化性樹脂層とを備えることを特徴とする、光透過性スタンパ。
IPC (4件)：
B29C 59/02 ,  B29C 59/16 ,  G02B 6/13 ,  G11C 13/04
FI (4件)：
B29C 59/02 B ,  B29C 59/16 ,  G11C 13/04 Z ,  G02B 6/12 M
Fターム (21件)：
2H047KA02 ,  2H047MA03 ,  2H047QA05 ,  2H047RA00 ,  2H047TA05 ,  2H047TA43 ,  2H047TA44 ,  4F209AA24 ,  4F209AA28 ,  4F209AA44 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ03 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PA15 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PG05 ,  4F209PQ11
引用特許：
審査官引用 (15件)
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