反応ガス供給装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-197529
公開番号（公開出願番号）：特開平9-048690
出願日： 1995年08月02日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【課題】反応ガス供給源からガス反応装置へ供給される有毒な反応ガスの漏れを防止すること。【解決手段】本発明の反応ガス供給装置は、有毒ガスを含む反応ガス供給源B1、B2、B3とガス反応装置4との間を内部パイプPi1、Pi2、Pi3、Pi4と外部パイプPo1、Po2、Po3、Po4とからなる二重配管で配管されており、前記内部パイプで前記反応ガス供給源からの反応ガスを前記ガス反応装置に供給できるように接続し、前記外部パイプには排気ポンプPM3が接続されていて、前記内部パイプから漏洩した有毒ガスを常時排気するように構成されている

請求項（抜粋）：

有毒ガスを含む反応ガス供給源とガス反応装置との間を内部パイプと外部パイプとからなる二重配管で配管されており、前記内部パイプで前記反応ガス供給源からの反応ガスを前記ガス反応装置に供給できるように接続し、前記外部パイプには排気ポンプが接続されていて、前記内部パイプから漏洩した有毒ガスを常時排気するように構成されていることを特徴とする反応ガス供給装置。

IPC (3件)：

C30B 25/14 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (3件)：

C30B 25/14 , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (5件)

半導体製造用流体材料供給装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-247495 出願人：株式会社神戸製鋼所
半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-192292 出願人：日本電装株式会社
材料ガス供給管の加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-252621 出願人：株式会社東芝

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