RI化合物合成装置及びRI化合物合成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 寺崎史朗 , 黒木義樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-179760
公開番号（公開出願番号）：特開2008-008770
出願日： 2006年06月29日
公開日（公表日）： 2008年01月17日
要約：

【課題】反応物質の量を減らすために微量の反応物質を取り扱うことができ、かつ流路壁面に吸着される生成物を減らすことで放射性同位元素標識化合物の収率を向上することができるRI化合物合成装置及びRI化合物合成方法を提供する。【解決手段】RI化合物合成装置1は、互いに連結された第1反応部A1と第2反応部A2との間で放射性同位元素化合物のスピペロン溶液を往復移動させる流体往復部25と、流体往復部25に[11C]ヨウ化メチルを導入する原料導入部28と、を備えている。そして、原料導入部28は、流体が通過する流体流路L2と、流体流路L2上に設けられ流体流路L2を通過する流体に[11C]ヨウ化メチルを供給する原料供給部27と、を有している。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

放射性同位元素を反応させて、放射性同位元素標識化合物を得るRI化合物合成装置において、互いに連結された第1及び第2の反応部を有し、前記第1の反応部と前記第2の反応部との間で前記放射性同位元素化合物の第1の原料を含む原料流体を往復移動させる流体往復部と、流体が通過する流体流路と、前記流体流路上に設けられ前記流体流路を通過する流体に前記放射性同位元素標識化合物の第2の原料を供給する原料供給部と、を有し、前記流体往復部に前記第2の原料を導入する原料導入部と、を備えたことを特徴とするRI化合物合成装置。

IPC (2件)：

G01T 1/161 , A61K 51/00

FI (2件)：

G01T1/161 D , A61K49/02 C

Fターム (14件)：

2G088EE02 , 2G088EE30 , 2G088FF07 , 4C085HH03 , 4C085JJ02 , 4C085JJ03 , 4C085KA29 , 4C085KA36 , 4C085KB39 , 4C085KB56 , 4C085LL13 , 4H006AA04 , 4H006AC84 , 4H006BD80

引用特許：

出願人引用 (1件)

微細加工デバイスの使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-576367 出願人：ハマースミス・イメイネット・リミテッド

審査官引用 (4件)

RI化合物合成装置及びRI化合物合成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-131705 出願人：住友重機械工業株式会社
RI合成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-194610 出願人：住友重機械工業株式会社
RI標識化合物合成システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-155136 出願人：住友重機械工業株式会社

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