特許
J-GLOBAL ID：200903053497417963
基板表面のマイクロラフネス測定方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-336229
公開番号（公開出願番号）：特開2001-201448
出願日： 2000年11月02日
公開日（公表日）： 2001年07月27日
要約：
【要約】【課題】 基板表面のマイクロラフネス測定方法及び装置を提供する。【解決手段】 基板表面の一部を、パーチクルカウンターを使用して測定し(段階10)、基板表面上の複数のポイントに対応する第1測定値を提供する(段階20)。複数のポイントのうちの一つを含む基板表面の選択された領域をAFMを使用して測定し(段階60)、選択された領域のマイクロラフネス測定値を提供する(段階70)。選択された領域はパーチクルカウンターを使用して測定された基板表面部分のローカル領域である。基板表面の測定値として第1測定値及びマイクロラフネス測定値を提供する。パーチクルカウンターを使用して測定される部分は、例えば実質的に基板表面全体となることができるところが特徴である。
請求項（抜粋）：
パーチクルカウンターを使用して基板表面の少なくとも一部を測定し、前記基板表面上の複数のポイントに対応する第1測定値を提供する段階と、前記複数のポイントのうちの一つを含む基板表面の選択された領域であって、前記パーチクルカウンターを使用して測定された基板表面の前記少なくとも一部のローカル領域の前記選択された領域を原子間力顕微鏡を使用して測定し、前記選択された領域のマイクロラフネス測定値を提供する段階と、基板表面の測定値として前記第1測定値及び前記マイクロラフネス測定値を提供する段階と、を含むことを特徴とする基板表面のマイクロラフネス測定方法。
IPC (3件)：
G01N 13/16
, G01B 21/30 102
, H01L 21/66
G01N 13/16 A
, G01B 21/30 102
, H01L 21/66 K
