特許
J-GLOBAL ID：200903053511793353
露光装置およびデバイス製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-066878
公開番号（公開出願番号）：特開2000-260704
出願日： 1999年03月12日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：
【要約】【課題】 フォーカス位置を良好に維持しつつスループットを向上させる。【解決手段】 原板6のパターンを投影光学系9を介して可動ステージ11上に載置した基板12上に投影露光するに際しての最適フォーカス位置を、可動ステージとの相対位置を投影光学系の光軸方向に変化させながらフォーカス計測手段27により可動ステージ上の基準マーク13または基板12の表面を観察して観察像のぼけ具合を示す所定の評価情報を得ることにより計測し、この最適フォーカス位置において投影露光を行なう露光装置またはデバイス製造方法において、最後に投影露光が行なわれてからの経過時間に基づいて、あるいは所定のタイミングにおいてフォーカス計測手段により得た評価情報と前回最適フォーカスの計測を行なった際の前記評価情報とに基づいて、最適フォーカスの計測を行なうか否かを制御する。
請求項（抜粋）：
原版を保持する可動ステージと、原版表面との相対位置関係を観察光学系の光軸方向に変化させながら、前記原版表面を観察することにより、最適フォーカス位置を計測するフォーカス計測手段を備えた露光装置であって、特定の計測パラメータを所定値を超えたか否かを以って前記フォーカス計測手段による計測を行なうか否かを制御する制御手段を具備することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 526 B
, G03F 9/02 H
5F046BA03
, 5F046CC02
, 5F046CC05
, 5F046DA14
, 5F046DB05
, 5F046DB10
