特許
J-GLOBAL ID：200903053527898201

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者：
入江 真樹子

入江 真樹子 について

, 
吉井 靖博

吉井 靖博 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-280201
公開番号（公開出願番号）：特開2008-096816
出願日： 2006年10月13日
公開日（公表日）： 2008年04月24日
要約：
【課題】良好なリソグラフィー特性を有し、かつ液浸露光用として好適な疎水性を有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、式中、置換基としてフッ素原子および/またはフッ素化アルキル基を有する炭素数4〜12の脂肪族環式基で表される構成単位からなるアクリル酸エステル系樹脂成分(C)とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、下記一般式(c1)で表される構成単位(c1)からなる樹脂成分(C)とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/28
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/28
Fターム (19件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100BA02P ,  4J100BB07P ,  4J100BB17P ,  4J100BB18P ,  4J100BC07P ,  4J100BC08P ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (6件)
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