特許

J-GLOBAL ID：200903068546468762

不飽和カルボン酸ヘミアセタールエステル、高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物

発明者： 小山 裕 ,  井上 慶三 ,  岩浜 隆裕
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-028595
公開番号（公開出願番号）：特開2005-220059
出願日： 2004年02月04日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：

【課題】 フォトレジスト用として用いた場合に優れた酸脱離性を示す高分子化合物を提供する。【解決手段】 下記式(1)【化1】(式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のハロアルキル基を示し、Rbは1位に水素原子を有する炭化水素基を示し、Rcは水素原子又は炭化水素基を示し、Rdは環式骨格を含む有機基を示す)で表される不飽和カルボン酸ヘミアセタールエステルに対応する繰り返し単位を含む高分子化合物。この高分子化合物は、さらに、ラクトン骨格含有単量体、環状ケトン骨格含有単量体、酸無水物基含有単量体及びイミド基含有単量体から選択された少なくとも1種の単量体に対応する繰り返し単位、及び/又はヒドロキシル基含有単量体、メルカプト基含有単量体及びカルボキシル基含有単量体から選択された少なくとも1種の単量体に対応する繰り返し単位を含んでいてもよい。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)

IPC (3件)：

C07C69/54 ,  C08F20/26 ,  G03F7/039

FI (3件)：

C07C69/54 Z ,  C08F20/26 ,  G03F7/039 601

Fターム (30件)：

2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006AB92 ,  4H006BJ30 ,  4H006BP10 ,  4H006BP20 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03R ,  4J100BA11Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-050264   出願人：富士通株式会社

審査官引用 (4件)

• 高分子化合物、それを用いた感光性樹脂組成物およびパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-309742   出願人：日本電気株式会社
• 化学増幅型レジスト用重合体及びこれを含有した化学増幅型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-054881   出願人：コリアクンホペトロケミカルカンパニーリミテッド
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-089903   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-327056   出願人：富士写真フイルム株式会社