特許
J-GLOBAL ID：200903089224468730

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
神田 博美

神田 博美 について

, 
稲部 陽樹

稲部 陽樹 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-196529
公開番号（公開出願番号）：特開2006-048029
出願日： 2005年07月05日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：
【課題】 液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 (A)単環または多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)炭素数5以上のアルキル基を有するアルカリ可溶性化合物、 (D)溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)単環または多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)炭素数5以上のアルキル基を有するアルカリ可溶性化合物、 (D)溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
Fターム (14件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20
引用特許：
出願人引用 (17件)
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審査官引用 (14件)
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