特許
J-GLOBAL ID：200903053550247668
複合酸化物薄膜及びその製造方法及び光学素子
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-099458
公開番号（公開出願番号）：特開2006-278274
出願日： 2005年03月30日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：
【課題】屈折率差の大きな異質相を精度良く所望形状に形成することができ、光学素子の小型化を図ることのできる複合酸化物薄膜及びその製造方法及び光学素子を提供する。【解決手段】複合酸化物薄膜は、酸化状態での安定性が比較的低いとされている標準電極電位の高い材料(例えば、Bi)と、酸化状態での安定性が比較的高いとされている標準電極電位の低い材料(例えば、Ti、Si、Al、B)との化合物である複合酸化物膜(酸化化合物膜)1の内部に、集光レンズ7により集光した短パルスレーザー5の誘起により短パルスレーザーの非照射部と屈折率の異なる異質相3が形成されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複合酸化物膜の内部に集光した短パルスレーザーの誘起により、短パルスレーザーの非照射部と屈折率の異なる異質相が形成されていることを特徴とする複合酸化物薄膜。
IPC (5件)：
H01B 5/14
, C01G 23/00
, C23C 14/34
, G02B 1/02
, H01B 13/00
H01B5/14 A
, C01G23/00 C
, C23C14/34 N
, G02B1/02
, H01B13/00 503B
4G047CA07
, 4G047CB04
, 4G047CC03
, 4G047CD02
, 4K029AA09
, 4K029BA46
, 4K029BA50
, 4K029BB02
, 4K029BC07
, 4K029CA06
, 4K029DC05
, 4K029DC35
, 4K029GA00
, 5G307FB01
, 5G307FC03
, 5G323BA02
, 5G323BB05
, 5G323BC03
