特許
J-GLOBAL ID:200903053568313684

窒化物半導体レ-ザ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 前田 弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-098517
公開番号(公開出願番号):特開2000-049410
出願日: 1999年04月06日
公開日(公表日): 2000年02月18日
要約:
【要約】【課題】寿命が長い高信頼性を有する窒化物半導体レーザ装置を提供する。【解決手段】 窒化物半導体レーザダイオードのレーザ端面に設けられた保護層は、窒化物レーザダイオードが発振する光に対して透明であるAl1-x-y-zGaxInyBzN(0≦x、y、z≦1、且つ、0≦x+y+z≦1)からなる。
請求項(抜粋):
窒化物半導体レーザダイオードと、前記窒化物半導体レーザダイオードのレーザ端面に設けられた保護層とを有し、前記保護層は、前記窒化物レーザダイオードが発振する光に対して透明であるAl1-x-y-zGaxInyBzN(0≦x、y、z≦1、且つ、0≦x+y+z≦1)からなる窒化物半導体レーザ装置。
IPC (2件):
H01S 5/028 ,  H01S 5/343
FI (2件):
H01S 3/18 618 ,  H01S 3/18 677
引用特許:
審査官引用 (6件)
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