特許
J-GLOBAL ID:200903053568313684
窒化物半導体レ-ザ装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
前田 弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-098517
公開番号(公開出願番号):特開2000-049410
出願日: 1999年04月06日
公開日(公表日): 2000年02月18日
要約:
【要約】【課題】寿命が長い高信頼性を有する窒化物半導体レーザ装置を提供する。【解決手段】 窒化物半導体レーザダイオードのレーザ端面に設けられた保護層は、窒化物レーザダイオードが発振する光に対して透明であるAl1-x-y-zGaxInyBzN(0≦x、y、z≦1、且つ、0≦x+y+z≦1)からなる。
請求項(抜粋):
窒化物半導体レーザダイオードと、前記窒化物半導体レーザダイオードのレーザ端面に設けられた保護層とを有し、前記保護層は、前記窒化物レーザダイオードが発振する光に対して透明であるAl1-x-y-zGaxInyBzN(0≦x、y、z≦1、且つ、0≦x+y+z≦1)からなる窒化物半導体レーザ装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01S 3/18 618
, H01S 3/18 677
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開平1-115191
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窒化アルミニウムの製造方法および半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-089215
出願人:松下電器産業株式会社
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半導体レーザ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-009813
出願人:松下電器産業株式会社
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半導体レーザー
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-190669
出願人:株式会社リコー, リコー応用電子研究所株式会社
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半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-199205
出願人:アンリツ株式会社
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特開昭61-258489
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