制御方法および制御装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-111055
公開番号（公開出願番号）：特開2003-005802
出願日： 2002年04月12日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：

【要約】【課題】煩雑さを伴うことなく種々のプロセス条件に応じて高精度でプロセス制御を行うことができる制御方法および制御装置を提供すること。【解決手段】所定の制御パラメータにより所定のプロセスパラメータを制御する制御器を用いた制御方法は、予め各制御ステップ毎の最適な制御パラメータ値を求めてテーブル化する工程(ST1)と、このテーブルから制御器に対する実際の設定条件変化に対応する制御パラメータ値を選択する工程(ST2)と、制御器に設定されている制御パラメータ値を、選択工程で選択された制御パラメータ値に変更する工程(ST3)と、制御器から変更された制御パラメータに基づく制御信号を制御対象に出力する工程(ST4)とを具備する。

請求項（抜粋）：

所定の制御パラメータにより所定のプロセスパラメータを制御する制御器を用いた制御方法であって、予め各制御ステップ毎の最適な制御パラメータ値を求めてテーブル化する工程と、前記テーブルから前記制御器に対する実際の設定条件変化に対応する制御パラメータ値を選択する工程と、前記制御器に設定されている制御パラメータ値を、前記選択工程で選択された制御パラメータ値に変更する工程と、前記制御器から前記変更された制御パラメータに基づく制御信号を制御対象に出力する工程とを具備することを特徴とする制御方法。

IPC (3件)：

G05B 13/02 , G05B 11/36 501 , H01L 21/205

FI (3件)：

G05B 13/02 B , G05B 11/36 501 F , H01L 21/205

Fターム (22件)：

5F045AA06 , 5F045BB10 , 5F045EE01 , 5F045EE17 , 5F045GB16 , 5H004GA22 , 5H004GB20 , 5H004HA03 , 5H004HB03 , 5H004JA04 , 5H004JA07 , 5H004JB01 , 5H004KA44 , 5H004KA78 , 5H004KB09 , 5H004KB19 , 5H004KC48 , 5H004KC52 , 5H004LA02 , 5H004LA03 , 5H004LA05 , 5H004LA11

引用特許：

審査官引用 (5件)

ガス系の制御方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-213667 出願人：東京エレクトロン株式会社, 株式会社本山製作所
特開平1-265305
制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-114962 出願人：三菱重工業株式会社

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