欠陥検査方法及び欠陥検査装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：小川勝男 , 田中恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-313897
公開番号（公開出願番号）：特開2005-083800
出願日： 2003年09月05日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：

【課題】パターンの微細化に対応した高感度欠陥検査方法とその装置を提供する。【解決手段】対物レンズ30と試料1の間を液で満たして、実効NA(Numerical Aperture)を大きくすることにより、検出光学系の解像度を向上する。さらに、試料表面に透明な層間絶縁膜が形成されている場合、対物レンズと試料の間を透明膜に近い屈折率の液体で浸すことにより、液と絶縁膜界面での振幅分割を抑制し、薄膜干渉による光学像の明るさむらを低減する。これらの技術により、欠陥検査感度を向上する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

試料と検出光学系の先端部との間を液浸にした状態で、前記試料の光学像を前記検出光学系で形成する光学像形成ステップと、該光学像形成ステップで形成された試料の光学像をイメージセンサで画像信号として取得する信号取得ステップと、該信号取得ステップで取得された画像信号を基に前記試料上の欠陥を検出する欠陥検出ステップとを有する欠陥検査工程を有することを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (3件)：

G01N21/956 , G01B11/30 , H01L21/66

FI (3件)：

G01N21/956 A , G01B11/30 A , H01L21/66 J

Fターム (31件)：

2F065AA49 , 2F065CC19 , 2F065DD03 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065HH12 , 2F065HH13 , 2F065JJ02 , 2F065JJ03 , 2F065JJ25 , 2F065JJ26 , 2F065LL04 , 2F065LL12 , 2F065LL46 , 2F065MM03 , 2F065PP12 , 2F065PP13 , 2F065QQ03 , 2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051BA05 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CC09 , 2G051DA01 , 4M106AA01 , 4M106BA10 , 4M106CA38 , 4M106CA39 , 4M106CA41 , 4M106DB11

引用特許：

出願人引用 (1件)

試料表面の観察方法及びその装置並びに欠陥検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-263149 出願人：株式会社日立製作所

審査官引用 (9件)

表面パターンの検査方法及び検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-220488 出願人：株式会社東芝
顕微鏡システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-176587 出願人：オリンパス光学工業株式会社
リソグラフィーアライナー、製造装置、または検査装置用の焦点及びチルト調節システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-274812 出願人：株式会社ニコン

全件表示

前のページに戻る