特許

J-GLOBAL ID：200903053898896414

磁気記録媒体用Ruターゲット材および磁気記録媒体

発明者： 上野 友典 ,  韓 剛 ,  千綿 伸彦 ,  谷口 繁 ,  上野 英
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-324559
公開番号（公開出願番号）：特開2002-133653
出願日： 2000年10月24日
公開日（公表日）： 2002年05月10日
要約：

【要約】【課題】 従来の方法では、高純度のRuターゲット材を得ることはできるが、結晶粒径が粗大化し、抗折力低下、スパッタ時の異物の発生や経時変化が大きくなった。【解決手段】 平均結晶粒径を100μm以下とすることで、ターゲット材の結晶粒径に依存するスパッタ時の異物の発生や経時変化を著しく低減し、さらに強度も保持された磁気記録媒体用として好適なRuターゲット材を得た。

請求項（抜粋）：

平均結晶粒径が100μm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用Ruターゲット材。

IPC (3件)：

G11B 5/851 ,  C23C 14/34 ,  G11B 5/64

FI (3件)：

G11B 5/851 ,  C23C 14/34 A ,  G11B 5/64

Fターム (11件)：

4K029BA02 ,  4K029BC00 ,  4K029BD11 ,  4K029DC03 ,  4K029DC09 ,  5D006BB01 ,  5D006EA03 ,  5D112AA05 ,  5D112BB01 ,  5D112FA04 ,  5D112FB02

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 磁気記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-074341   出願人：旭コマグ株式会社
• 高純度ルテニウムの製造方法および薄膜形成用高純度ルテニウム材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-219014   出願人：株式会社ジャパンエナジー
• B2規則格子金属間化合物ターゲットおよび磁気記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-191983   出願人：日立金属株式会社
• 特開平4-268074
  
• Ruターゲットおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-318465   出願人：日立金属株式会社
• 高純度ルテニウムスパッタリングターゲットの製造方法及び高純度ルテニウムスパッタリングターゲット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-198766   出願人：株式会社ジャパンエナジー