特許
J-GLOBAL ID:200903053941159925
基板処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
杉谷 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-266585
公開番号(公開出願番号):特開2000-100904
出願日: 1998年09月21日
公開日(公表日): 2000年04月07日
要約:
【要約】【課題】 検出手段の故障や誤動作を招かずに、検出手段の長寿命化や基板検知の信頼性の向上を図る。【解決手段】 筐体9と初期状態計測部1とローダ部2と処理部3(各処理槽34、45及び乾燥部33)とアンローダ部4とはその順に直列されて配設されている。ローダ部2から乾燥部33までの間の基板Wの搬送は搬送装置6Aが行い、乾燥部33とアンローダ部4との間の基板Wの搬送は搬送装置6Bが行なう。搬送装置6A、6Bに保持されている基板群WG2を撮像するCCDカメラ7は、処理部3の上方から外れた筐体9内に設置されている。制御系8では、CCDカメラ7で撮像された画像に基づき、搬送装置6A、6Bでの基板Wの保持状態を調べ、その結果に応じて予め決められた処理を行なう。
請求項(抜粋):
基板を収容して基板に処理を施す処理部と、基板を保持して前記処理部への基板の搬送を行なう搬送手段と、前記処理部の上方の空間から外れた位置に設置され、前記搬送手段に保持されている基板を検知するための検知手段と、前記検知手段からの出力に基づき前記搬送手段での基板の保持状態を調べ、その結果に応じて予め決められた処理を行なう制御手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
Fターム (15件):
5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031FA01
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031GA18
, 5F031HA42
, 5F031HA45
, 5F031HA73
, 5F031JA04
, 5F031JA05
, 5F031JA43
, 5F031MA03
, 5F031MA23
, 5F031PA02
引用特許:
審査官引用 (5件)
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表面処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-108875
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
部品供給装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-005080
出願人:日本電装株式会社
-
特開平2-135752
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