特許
J-GLOBAL ID:200903054027134368

レーザ処理装置および該レーザ処理装置の制御方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 横井 幸喜
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-168999
公開番号(公開出願番号):特開2000-000682
出願日: 1998年06月16日
公開日(公表日): 2000年01月07日
要約:
【要約】【課題】 レーザ処理装置の処理能力が経時的に変化するのを防止して安定した性能を確保する。【解決手段】 レーザ光の最大強度を強度測定手段13aで測定し、ビームの傾きを傾き測定手段13bで測定し、これら測定結果に基づきレーザ光出力をレーザ光出力制御手段14で制御し、傾き制御手段15によってホモジナイザーレンズ7へのレーザ光の入射位置及び入射量が変わるようにミラー6を移動制御する。【効果】 処理に影響を与えるレーザ光の波形要素の変化が抑えられ、安定して均質なレーザ処理を行うことができる。
請求項(抜粋):
被処理物にパルスレーザ光の波形を照射して被処理物の処理を行うレーザ処理装置の制御方法であって、前記レーザ光の1パルス内での最大強度を測定し、この測定に基づいて、上記最大強度を制御量としてレーザ光の出力を制御することを特徴とするレーザ処理装置の制御方法
IPC (5件):
B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  H01L 21/268 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/102
FI (5件):
B23K 26/00 N ,  B23K 26/06 E ,  H01L 21/268 J ,  H01S 3/00 B ,  H01S 3/102
Fターム (25件):
4E068AH00 ,  4E068CA01 ,  4E068CA02 ,  4E068CA03 ,  4E068CA17 ,  4E068CC01 ,  4E068CD10 ,  4E068CD11 ,  4E068CD14 ,  5F072AA06 ,  5F072GG01 ,  5F072GG05 ,  5F072HH02 ,  5F072HH03 ,  5F072HH09 ,  5F072JJ05 ,  5F072KK05 ,  5F072KK30 ,  5F072MM01 ,  5F072MM05 ,  5F072MM08 ,  5F072MM09 ,  5F072SS06 ,  5F072YY06 ,  5F072YY08
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • レーザ加工装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-232674   出願人:株式会社ニコン
  • 特開昭63-116481
  • ビームホモジナイザ
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-314039   出願人:住友重機械工業株式会社
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審査官引用 (2件)
  • レーザ加工装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-232674   出願人:株式会社ニコン
  • 特開昭63-116481

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