特許
J-GLOBAL ID:200903054507865753

水素ガス生成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-290616
公開番号(公開出願番号):特開2006-104000
出願日: 2004年10月01日
公開日(公表日): 2006年04月20日
要約:
【課題】 小型・軽量化が可能であると共に、エネルギーを循環利用したエネルギー利用効率の高い水素生成が行なえ、特に内燃機関を有する場合はその排気熱を利用して水素生成に必要な温度域を確保し、熱効率よく水素ガスを脱水素生成する。【解決手段】 加圧下500°C以上で脱水素反応させる加圧型脱水素タンク10と常圧下250〜350°Cで脱水素反応させる常圧型脱水素タンク20と常圧下100°C以下で脱水素/水素化反応させる脱水素兼水素化タンク30とを、水素エンジンの排出ガスを加圧型脱水素タンク10側から脱水素兼水素化タンク30の方向に向かって挿通する加熱器40によって、順次段階的に温度を下げつつ加熱する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
加熱雰囲気を一方から他方に挿通して外部を加熱する加熱手段と、 第1の脱水素触媒を備え、供給された脱水素用燃料を加圧下、前記加熱手段により温度t1に加熱された前記第1の脱水素触媒上で脱水素反応させる第1反応手段と、 前記第1反応手段の前記加熱雰囲気の挿通方向下流側に設けられ、第2の脱水素触媒を備え、かつ供給された脱水素用燃料を、前記加熱手段により温度t2(≦t1)に加熱された前記第2の脱水素触媒上で脱水素反応させる第2反応手段と、 前記第2反応手段の前記加熱雰囲気の挿通方向下流側に設けられ、脱水素兼水素化触媒及び該脱水素兼水素化触媒と接する脱水素用燃料を備え、かつ前記加熱手段により温度t3(≦t2)に加熱された前記脱水素兼水素化触媒上で、水素ガスが供給されないときには脱水素兼水素化触媒と接する前記脱水素用燃料を脱水素反応させ、水素ガスが供給されたときには脱水素兼水素化触媒と接する前記脱水素用燃料の脱水素反応により生成された脱水素生成物である水素化用燃料を水素化反応させる第3反応手段と、 を備えた水素ガス生成装置。
IPC (1件):
C01B 3/26
FI (1件):
C01B3/26
Fターム (4件):
4G140DA01 ,  4G140DA03 ,  4G140DB03 ,  4G140DC03
引用特許:
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (10件)
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