光加熱装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：五十畑勉男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-157702
公開番号（公開出願番号）：特開2006-332541
出願日： 2005年05月30日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：

【課題】ウエハの表面を高い均一性で加熱することのできる光加熱装置を提供すること。【解決手段】フラッシュランプと、フラッシュランプの光を反射するリフレクタと、ウエハを載置する支持部材とを有し、支持部材上のウエハにフラッシュランプからの光を照射することによりウエハを加熱する光加熱装置において、フラッシュランプの有効発光領域はウエハの表面積よりも大きく、リフレクタの反射面はウエハの表面積よりも大きく、支持部材の支持面はウエハの表面積よりも大きくかつシリコンよりなることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

フラッシュランプと、フラッシュランプの光を反射するリフレクタと、ウエハを載置する支持部材とを有し、支持部材上のウエハにフラッシュランプからの光を照射することによりウエハを加熱する光加熱装置において、前記フラッシュランプの有効発光領域はウエハの表面積よりも大きく、前記リフレクタの反射面はウエハの表面積よりも大きく、前記支持部材の支持面はウエハの表面積よりも大きくかつシリコンよりなることを特徴とする光加熱装置。

IPC (1件)：

H01L 21/26

FI (2件)：

H01L21/26 J , H01L21/26 Q

引用特許：

出願人引用 (1件)

熱処理装置および熱処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-330230 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (8件)

熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-330229 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開昭61-237431
半導体装置の製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-260390 出願人：株式会社東芝

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