特許
J-GLOBAL ID：200903054653828916

真空処理装置

発明者：
亦野 勝次

亦野 勝次 について

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濱崎 良二

濱崎 良二 について

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坂口 正道

坂口 正道 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 特許業務法人第一国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-305139
公開番号（公開出願番号）：特開2008-124191
出願日： 2006年11月10日
公開日（公表日）： 2008年05月29日
要約：
【課題】複数の処理室でのウエハ処理にぽいて、ウエハ面内の不均一を良くすることができ、処理の効率や歩留まりを向上させた真空処理装置を提供する。【解決手段】減圧された内部に配置された処理対象の基板状の試料を処理可能な処理室を備えた複数の真空容器と、前記試料が複数収納可能なカセットが載置されるカセット台と、前記試料を前記カセットから一つの前記処理容器内の処理室に所定の経路に沿って搬送しこれら処理室で処理された試料を前記カセットに戻す少なくとも1つの搬送装置と、前記カセット台と前記複数の真空容器との間の前記経路上に配置され内部で前記試料を予め定められた位置に位置合わせする位置合せ装置とを備えた真空処理装置であって、前記位置合せ装置が、前記試料に施される処理に応じて異なる位置に前記試料を位置合わせする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
減圧された内部に配置された処理対象の基板状の試料を処理可能な処理室を備えた複数の真空容器と、前記試料が複数収納可能なカセットが載置されるカセット台と、前記試料を前記カセットから一つの前記処理容器内の処理室に所定の経路に沿って搬送しこれら処理室で処理された試料を前記カセットに戻す少なくとも1つの搬送装置と、前記カセット台と前記複数の真空容器との間の前記経路上に配置され内部で前記試料を予め定められた位置に位置合わせする位置合せ装置とを備えた真空処理装置であって、 前記位置合せ装置が、前記試料に施される処理に応じて異なる位置に前記試料を位置合わせする真空処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/677
FI (3件)：
H01L21/302 101G ,  H01L21/205 ,  H01L21/68 A
Fターム (41件)：
5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BC05 ,  5F004BC06 ,  5F004BD01 ,  5F004BD03 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F004CA08 ,  5F004CA09 ,  5F004EA33 ,  5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA43 ,  5F031JA28 ,  5F031JA29 ,  5F031JA35 ,  5F031MA04 ,  5F031MA09 ,  5F031MA11 ,  5F031MA32 ,  5F031NA07 ,  5F031PA02 ,  5F031PA06 ,  5F031PA30 ,  5F045AA03 ,  5F045AA06 ,  5F045AA08 ,  5F045BB01 ,  5F045EB08 ,  5F045EN04 ,  5F045EN06 ,  5F045GB15 ,  5F045GB16 ,  5F045HA24 ,  5F045HA25
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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