ネガ型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：木村満
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-262870
公開番号（公開出願番号）：特開2003-177535
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
要約：

【要約】【課題】 ArFエキシマレーザ光等の220nm以下の光を露光光に用いたリソグラフィ用として好適に用いられる、ドライエッチング耐性、高解像性に加え、膨潤によるパターン変形及び基板密着性(微細なパターンが基板から剥がれにくい)を兼ね備えた実用性が高いネガ型フォトレジストを提供する。【解決手段】下記式(1)に示す繰り返し単位を有するジオール構造を含有してなる重合体と、下記式(7)に示す官能基を含む化合物からなる架橋剤と、露光により酸を発生する光酸発生剤とを含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。【化1】【化2】

請求項（抜粋）：

下記式(1)に示す繰り返し単位を有するジオール構造を含有してなる重合体と、下記式(7)に示す官能基を含有してなる架橋剤と、露光により酸を発生する光酸発生剤とを含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。【化1】[式(1)中、R1は水素原子又はメチル基、R2は炭素数2から6のアルキレン基、Xはジオール構造を有する脂環式アルキル基をそれぞれ示す。]【化2】[式(7)中、R14は水素原子、炭素数1から6のアルキル基又は炭素数3から6のオキソアルキル基を示す。]

IPC (4件)：

G03F 7/038 601 , C08F 20/28 , C08G 12/12 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/038 601 , C08F 20/28 , C08G 12/12 , H01L 21/30 502 R

Fターム (48件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC17 , 2H025FA17 , 4J033EA13 , 4J033EA32 , 4J033EA62 , 4J100AL03S , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA03R , 4J100BA16Q , 4J100BC04S , 4J100BC07P , 4J100BC07Q , 4J100BC07R , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC09S , 4J100BC15R , 4J100BC15S , 4J100BC26R , 4J100BC26S , 4J100BC27R , 4J100BC27S , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (7件)

ジオール構造を有する脂環式(メタ)アクリレート
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-312171 出願人：日本電気株式会社
酸感応性化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-135623 出願人：ダイセル化学工業株式会社
1,2-ジオール構造を有する重合体を用いたネガ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-288214 出願人：日本電気株式会社

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