特許
J-GLOBAL ID：200903054723113260
露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 青山 正和
, 西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-036676
公開番号（公開出願番号）：特開2007-251152
出願日： 2007年02月16日
公開日（公表日）： 2007年09月27日
要約：
【課題】パターンどうしを良好に位置合わせでき、基板を効率良く多重露光できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置EXは、第1パターンPA1の像を第1露光領域AR1に形成可能であり、第1パターンPA1と異なる第2パターンPA2の像を第2露光領域AR2に形成可能な投影光学系PLと、第1パターンPA1の像の位置情報、及び第2パターンPA2の像の位置情報の少なくとも一方を求めるための第1検出系10とを備える。検出結果に基づいて、第1及び第2パターンPA1,PA2の像と基板P上の所定領域Sとの位置関係を調整し、第1及び第2パターンPA1,PA2の像で基板P上の所定領域Sを多重露光する。基板を効率良く多重露光できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板を露光する露光装置であって、
第1パターンの像を第1露光領域に形成し、前記第1パターンと異なる第2パターンの像を第2露光領域に形成する光学システムと、
前記第1露光領域に形成されるパターン像の位置情報、及び前記第2露光領域に形成されるパターン像の位置情報の少なくとも一方を求めるための第1検出系とを備え、
前記第1露光領域に形成される第1パターンの像と前記第2露光領域に形成される第2パターンの像とで前記基板上の所定領域を多重露光する露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, H01L21/30 514A
5F046AA13
, 5F046BA05
, 5F046CB25
, 5F046CC02
, 5F046DB05
, 5F046DB08
, 5F046EB01
, 5F046ED02
, 5F046FA17
, 5F046FC05
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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