特許
J-GLOBAL ID:200903054861131171
SiC単結晶の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
石田 敬
, 鶴田 準一
, 西山 雅也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-119952
公開番号(公開出願番号):特開2004-323293
出願日: 2003年04月24日
公開日(公表日): 2004年11月18日
要約:
【課題】温度勾配を用いずに安定してSiC単結晶を製造する方法を提供する。【解決手段】原料粉末を種結晶に接触させて常温または加熱下にて加圧し、得られた圧粉体を常圧下で熱処理する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
原料粉末を種結晶に接触させて常温にて加圧し、得られた圧粉体を常圧下で熱処理することを特徴とするSiC単結晶の製造方法。
IPC (4件):
C30B29/36
, C30B1/04
, C30B1/12
, H01L21/208
FI (4件):
C30B29/36 A
, C30B1/04
, C30B1/12
, H01L21/208 Z
Fターム (17件):
4G077AA02
, 4G077BE08
, 4G077CA04
, 4G077CA09
, 4G077EB05
, 4G077HA06
, 4G077JA06
, 4G077JA08
, 4G077JB02
, 4G077JB04
, 4G077JB07
, 5F053DD02
, 5F053FF01
, 5F053GG01
, 5F053HH01
, 5F053HH04
, 5F053PP20
引用特許: