特許
J-GLOBAL ID：200903054868177460

欠陥観察方法及びその装置

発明者：
中垣 亮

中垣 亮 について

, 
栗原 正樹

栗原 正樹 について

, 
本田 敏文

本田 敏文 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-049487
公開番号（公開出願番号）：特開2007-225531
出願日： 2006年02月27日
公開日（公表日）： 2007年09月06日
要約：
【課題】 半導体ウェハ等の試料上に存在する欠陥の画像を自動収集かつ自動分類する装置において,ユーザの要求によりその分類クラスが多数になる場合や,またその基準が高頻度で変更される場合でも,容易に対応可能な分類システムを提供する。【解決手段】 ユーザが分類クラスを定義する際に,各分類クラスが持つ属性を指定する仕組みを設ける。分類システムは各クラスが持つ属性を基に,内部のルール分類器と教示分類器との結合形態を自動変更し,ユーザの分類基準に合わせた分類システムを自動構築する。【選択図】 図8
請求項（抜粋）：
走査型電子顕微鏡を用いて試料を撮像して得た欠陥の画像を、予め設定したルールに基づいて分類するルール式分類器と複数の欠陥について該欠陥の種類を教示した教示式分類器とを結合させた分類器を用いて,ユーザが定義するクラスに分類する方法であって、 前記走査型電子顕微鏡で撮像して抽出した前記欠陥の画像を前記ルール式分類器を用いて予め設定したルールに基づいて分類し、 欠陥画像毎に,前記ユーザが定義するクラスと,前記ルール式分類器により分類した結果を突き合わせることにより,前記ルール式分類器の分類クラスと,ユーザが定義したクラスとの対応関係を設定する ことを特徴とする欠陥分類方法。
IPC (3件)：
G01N 23/225 ,  G06T 1/00 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01N23/225 ,  G06T1/00 305 ,  H01L21/66 J
Fターム (43件)：
2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001BA15 ,  2G001BA30 ,  2G001CA03 ,  2G001DA02 ,  2G001DA06 ,  2G001FA01 ,  2G001FA06 ,  2G001GA03 ,  2G001GA04 ,  2G001GA06 ,  2G001HA09 ,  2G001HA13 ,  2G001JA03 ,  2G001JA13 ,  2G001JA16 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051CC20 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EC01 ,  2G051ED21 ,  2G051FA01 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB18 ,  4M106DJ20 ,  5B057AA03 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB19 ,  5B057CD05 ,  5B057DA03 ,  5B057DA08 ,  5B057DC32
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (2件)

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