特許
J-GLOBAL ID：200903055024912480
ガス添加物を有する狭帯域ガス放電レーザ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-261880
公開番号（公開出願番号）：特開2001-148529
出願日： 2000年07月27日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 約500乃至2000Hzの範囲内の周波数でパルスを発生でき、エネルギ用量制御及び再現性を強化した極狭帯域パルスエキシマレーザを提供する。【解決手段】 酸素または重い希ガス(KrFレーザの場合はキセノンまたはラドン、ArFレーザの場合はクリプトン、キセノン、またはラドン)からなる極く少量の安定化添加物をガス混合体に添加する。KrFレーザに約30ppmのキセノンを添加すると、エネルギ安定度が実質的に改善される。ArFレーザに約6-10ppmのキセノン、または40ppmのクリプトンを添加すると、性能が改善される。KrFレーザの場合、フッ素分圧を0.10%以下に低下させ、且つ出力カップラの反射率を25%以上に増加させることによって、極狭帯域幅が得られる。ライン狭めモジュール内の溶融シリカビーム拡張プリズムを、フッ化カルシウムプリズムに代える。
請求項（抜粋）：
ガス放電レーザであって、フッ素と反応しない材料からなるレーザチャンバを備え、上記レーザチャンバは、(1)2つの細長い電極と、(2)少なくとも1つのプレイオナイザと、(3)第1の希ガス、フッ素、緩衝ガス、及び100ppmより少ない安定化添加ガスからなり、合計圧力を限定するようになっているレーザガスと、を含み、上記安定化添加ガスは、10ppmより少ない酸素と、ある量の、上記第1の希ガスよりも重い第2の希ガスとからなるグループから選択される、ことを特徴とするガス放電レーザ。
IPC (4件)：
H01S 3/225
, H01S 3/034
, H01S 3/0977
, H01S 3/104
H01S 3/104
, H01S 3/223 E
, H01S 3/03 G
, H01S 3/097 E
