特許
J-GLOBAL ID:200903055097493434

ポリエチレンテレフタレ-ト廃棄物のケミカルリサイクル方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大島 正孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-375101
公開番号(公開出願番号):特開2000-169623
出願日: 1998年12月10日
公開日(公表日): 2000年06月20日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 使用済みのポリエチレンテレフタレートを中間原料であるビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートとして、再度高純度のポリエチレンテレフタレート製品を製造できるようにする。【解決手段】 粗製ポリエチレンテレフタレートフレークを得る前処理工程と、過剰のエチレンク ゙リコールを加えて解重合を行い粗製ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレート(BHET)を得る解重合工程と、混合溶液中からポリエチレンテレフタレート樹脂以外の異プラスチック類及び固形異物及び/又は沈殿物を除去する異物除去工程を経て、蒸留・蒸発操作を施して濃縮BHETを得、これを真空蒸発させることにより精製ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートを得、溶融重縮合し高純度ポリエチレンテレフタレートポリマーを得る。
請求項(抜粋):
使用済みのポリエチレンテレフタレート廃棄物に粉砕、洗浄、異物分別等の前処理を施して粗製ポリエチレンテレフタレートフレークを得る前処理工程と、得られた粗製ポリエチレンテレフタレートフレークに過剰の精製及び/又は粗製のエチレングリコールを加えて触媒の存在下で解重合を行い粗製ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレート(BHET)を得る解重合工程と、得られた粗製BHETと粗製エチレングリコールの二種混合溶液中からポリエチレンテレフタレート樹脂以外のポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、塩化ビニールの如き異プラスチック類、及び/又は金属、ガラス、砂等の固形異物、及び/又は沈殿物を除去する異物除去工程と、得られた粗製BHETと粗製エチレングリコールの二種混合溶液中から着色物及び/又は溶存イオン を除去する前精製工程と、前精製工程を経た二種混合溶液に蒸留 蒸発操作を施してエチレングリコールを蒸発・留去させて濃縮BHETを得るか、もしくは二種混合溶液を10°C以下まで冷却してBHETを晶析させた後エチレングリコールとBHETを固液分離することにより濃縮BHETを得るBHET濃縮工程と、得られた濃縮BHETを190°Cを越え250°C以下の温度で且つ蒸発器内での濃縮BHETの滞留時間が10分以下となるように真空蒸発させることにより精製ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートを得るBHET精製工程と、得られた精製BHET及び/又は前記BHET濃縮工程で得られた濃縮BHETを原料として溶融重縮合し高純度ポリエチレンテレフタレートポリマーを得るポリエチレンテレフタレートポリマー生成工程とを経てポリエチレンテレフタレート廃棄物から高純度のポリエチレンテレフタレート重合物を得ることを特徴とするポリエチレンテレフタレート廃棄物のケミカルリサイクル方法。
IPC (7件):
C08J 11/10 CFD ,  B29B 13/10 ,  B29B 17/02 ,  C08G 63/183 ,  C08J 11/08 CFD ,  B29K 67:00 ,  B29K105:26
FI (5件):
C08J 11/10 CFD ,  B29B 13/10 ,  B29B 17/02 ,  C08G 63/183 ,  C08J 11/08 CFD
Fターム (41件):
4F201AA24 ,  4F201AA50 ,  4F201BA04 ,  4F201BC01 ,  4F201BC12 ,  4F201BC25 ,  4F201BN15 ,  4F201BN29 ,  4F201BP03 ,  4F201BP09 ,  4F201BP11 ,  4F201BP15 ,  4F201BP26 ,  4F201BP27 ,  4F201BP31 ,  4F201BQ44 ,  4F301AA25 ,  4F301AB03 ,  4F301CA13 ,  4F301CA23 ,  4F301CA27 ,  4F301CA34 ,  4F301CA52 ,  4F301CA62 ,  4F301CA68 ,  4F301CA72 ,  4F301CA73 ,  4J029AA03 ,  4J029AB04 ,  4J029AB07 ,  4J029AC01 ,  4J029AD01 ,  4J029AD02 ,  4J029AD10 ,  4J029AE01 ,  4J029BA03 ,  4J029HD04 ,  4J029KA03 ,  4J029KG01 ,  4J029KG02 ,  4J029KJ02
引用特許:
出願人引用 (7件)
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