特許

J-GLOBAL ID：200903055249386370

加熱処理装置、加熱処理方法及び記憶媒体

発明者： 福岡 哲夫 ,  北野 高広 ,  寺田 和雄
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-137001
公開番号（公開出願番号）：特開2008-294155
出願日： 2007年05月23日
公開日（公表日）： 2008年12月04日
要約：

【課題】熱板と基板とが平行となっている状態で加熱処理を行い、基板間で加熱処理の面内均一性を維持することの可能な加熱処理装置等を提供する。【解決手段】加熱処理装置1は側面に基板搬送口31の形成された加熱室3を備え、この加熱室3の上方側や下方側には、基板Wの加熱処理用の熱板36、37が水平に設けられている。基板搬送手段5は加熱室3内の加熱処理位置まで基板Wを搬送して保持し、熱板傾き検出手段は2A〜2E、71は熱板36、37の間の傾きを検出する。発報手段71、72はこの検出結果が予め設定した値を超えたときに警報を発報する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

側面に基板搬送口が形成された扁平な加熱室と、 この加熱室内にて基板の上方側及び下方側の少なくとも一方に位置するように水平に設けられ、基板を加熱処理するための熱板と、 基板を水平姿勢で前記基板搬送口を介して前記加熱室内における熱板に対向する加熱処理位置まで搬送し、加熱処理時の基板保持部を兼用する基板搬送手段と、 前記加熱室内の熱板の傾きを検出するための熱板傾き検出手段と、 この熱板傾き検出手段により検出した傾きが予め設定した値を超えたときに警報を発する報知手段と、を備えたことを特徴とする加熱処理装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 567

Fターム (3件)：

5F046KA04 ,  5F046KA05 ,  5F046KA10

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 加熱装置及び塗布、現像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-251389   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-259362   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 半導体処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-288771   出願人：松下電器産業株式会社
• 基板温度処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-157529   出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (4件)

• 加熱装置及び塗布、現像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-251389   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-259362   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 半導体処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-288771   出願人：松下電器産業株式会社
• 基板温度処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-157529   出願人：キヤノン株式会社