ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-285448
公開番号（公開出願番号）：特開平8-146602
出願日： 1994年11月18日
公開日（公表日）： 1996年06月07日
要約：

【要約】【目的】半導体デバイス等の製造において、高感度で解像力、現像性、ドライエッチング耐性、とりわけ解像力、耐熱性に優れている。【構成】?@アルカリ可溶性樹脂、?Aキノンジアジド化合物及び?B特定のポリヒドロキシ化合物の少なくとも1種、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、及び一般式(I)または一般式(II)で表される化合物の少なくとも1種を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1〜R6は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、シクロアルキル基を表わし、少なくとも1つはシクロアルキル基を表わす。R7〜R10は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、アルキル基を表わす。nは1〜4の整数を表す。【化2】式中、R11〜R18は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アシル基、シクロアルキル基を表わし、少なくとも1つはシクロアルキル基を表わす。R19〜R22は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、アルキル基を表わす。Aは、単結合、又は次の式で表わされる基を表わす。【化3】式中、R23、R24は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、アルキル基、アリール基を表わす。

IPC (2件)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開平4-299348
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-178137 出願人：住友化学工業株式会社
特開平4-122938

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