混合ガス供給システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：斎藤春弥 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-224459
公開番号（公開出願番号）：特開平11-051299
出願日： 1997年08月07日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】従来のガス供給システムで、クリーニング用ガスが希釈されずに高濃度で流れる第1の単位ガス配管P2の全長が比較的長くなるため、配管が腐食されやすいという問題があったのを解決する。【解決手段】ガス供給源11、12を含むガス供給部10と、各ガスを混合して蓄積する単一のバッファタンク20とを備え、各ガス供給源11、12とバッファタンク20との間を結ぶ単位ガス配管P11、P12に、制御装置30により制御されてバッファタンク20へ供給される各ガスの流量を調整する第1、第2の単位ガス流量調整装置13、14を設け、バッファタンク20と各チャンバ1a、1b、1cとは、混合ガス配管P20により接続され、混合ガス配管P20の分岐した部分には、チャンバへ供給される混合ガスの流量を調整する混合ガス流量調整装置40a、40b、40cを設ける構成とした。このほか、明細書記載のように各種構成が考えられる。

請求項（抜粋）：

複数種類のガスを混合して対象装置のチャンバに供給するための混合ガス供給システムにおいて、混合される複数種類のガスのガス供給源を含むガス供給部と、前記各ガス供給源からのガスを混合して蓄積する単一のバッファタンクと、前記各ガス供給源と前記バッファタンクとを結ぶ単位ガス配管と、前記バッファタンクと前記チャンバとを結ぶ混合ガス配管と、前記各単位ガス配管に設けられて前記バッファタンクへ供給される各ガスの流量を調整する複数の単位ガス流量調整装置と、前記混合ガス配管に設けられて前記対象装置からの要求に応じて前記チャンバへ供給される前記混合ガスの流量を調整する混合ガス流量調整装置と、所定の混合比率に基づいて各ガスが前記バッファタンクに供給されるよう前記各単位ガス流量調整装置を制御する制御装置とを備えることを特徴とする混合ガス供給システム。

IPC (3件)：

F17D 3/03 , F17D 1/04 , F17D 3/16

FI (3件)：

F17D 3/03 , F17D 1/04 , F17D 3/16

引用特許：

審査官引用 (5件)

半導体用特殊材料ガス供給装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-315549 出願人：三菱商事株式会社, 株式会社堀場製作所, 株式会社エステック
混合ガスの流量制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-210677 出願人：カシオ計算機株式会社
特開昭60-018699

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