特許
J-GLOBAL ID：200903055495063490

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者：
藤森 亨

藤森 亨 について

, 
丹 史郎

丹 史郎 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-165862
公開番号（公開出願番号）：特開2000-352822
出願日： 1999年06月11日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
要約：
【要約】【課題】 定在波、現像欠陥の発生が実質上無く、しかも高感度で高解像力の優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】(a)特定の末端構造を有するアセタール基を有し、かつ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(a)下記一般式(I)で示される基を有し、かつ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】上記一般式(I)中:R1、R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。Xは、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキレン基を表す。Yは、2価の連結基を表す。Zは、置換されてもよいヘテロ環基を表す。
IPC (18件)：
G03F 7/039 601 ,  C07C 43/225 ,  C07C 69/76 ,  C07C205/11 ,  C07C309/19 ,  C07C309/31 ,  C07C309/38 ,  C07C309/39 ,  C07C309/43 ,  C07C309/44 ,  C07C309/47 ,  C07C309/58 ,  C07C317/12 ,  C07C317/14 ,  C07C317/22 ,  C07C321/20 ,  C07C321/28 ,  H01L 21/027
FI (18件)：
G03F 7/039 601 ,  C07C 43/225 C ,  C07C 69/76 Z ,  C07C205/11 ,  C07C309/19 ,  C07C309/31 ,  C07C309/38 ,  C07C309/39 ,  C07C309/43 ,  C07C309/44 ,  C07C309/47 ,  C07C309/58 ,  C07C317/12 ,  C07C317/14 ,  C07C317/22 ,  C07C321/20 ,  C07C321/28 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (29件)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB08 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM30 ,  4H006BM74 ,  4H006BS30 ,  4H006EA22 ,  4H006EA23 ,  4H006GP03 ,  4H006TA02 ,  4H006TA04
引用特許：
審査官引用 (3件)

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