特許
J-GLOBAL ID：200903055625335404

光処理装置

発明者：
飯田 知之

飯田 知之 について

, 
諸石 光太郎

諸石 光太郎 について


出願人/特許権者：
ウシオ電機株式会社

ウシオ電機株式会社 について


代理人 (1件)： 田原 寅之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-244528
公開番号（公開出願番号）：特開2001-066563
出願日： 1999年08月31日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：
【要約】【課題】被照射物の昇温を抑制する熱線吸収フィルタの特性を劣化させることなく、光処理することが可能な光処理装置を提供する。また、熱線吸収フィルタの特性を劣化させないとともに、色ガラスフィルタの輻射熱により被照射物が昇温することがない光処理装置を提供する。【解決手段】ランプ1の光を、330nm以下の波長の光を除去または減衰させる遠紫外線カットフィルタ3と、750nm以上の波長の光を除去または減衰させる熱線吸収フィルタ4をこの順序に透過させて被照射物Lに照射する。また、熱線吸収フィルタ4を閉空間である通風路10を流れる冷却風により冷却する。
請求項（抜粋）：
光化学反応を生じる物質が塗布された被照射物に紫外線を照射して該光化学反応を生じる物質を反応させる光照射装置において、紫外線を含む光を照射する光源部と、330nm以下の波長の光を除去または減衰させる遠紫外線カットフィルタと、750nm以上の波長の光を除去または減衰させる熱線吸収フィルタとを備え、前記光源部の光が、遠紫外線カットフィルタを透過した後、熱線吸収フィルタを透過して被照射物に照射されることを特徴とする光処理装置。
IPC (2件)：
G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1339 505
FI (2件)：
G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1339 505
Fターム (12件)：
2H088EA68 ,  2H088HA11 ,  2H088HA12 ,  2H088HA21 ,  2H088HA28 ,  2H088KA04 ,  2H089QA06 ,  2H089SA17 ,  2H089TA06 ,  2H089TA12 ,  2H089TA17 ,  2H089TA18
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (1件)
  • 紫外線照射装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-056799   出願人：株式会社ソニー・ディスクテクノロジー

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