特許
J-GLOBAL ID：200903055746954268
露光量モニタマスク、露光量調整方法及び半導体装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-158955
公開番号（公開出願番号）：特開2000-310850
出願日： 1999年06月07日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：
【要約】【課題】 高精度に露光量の調整を行う。【解決手段】 露光量モニタマスクに配置された露光量検出用パターン100には、一対の相対位置検出用パターン104(104a,b)と、この相対位置検出用パターンに挟まれた露光量モニタパターン101とがx軸方向(一方向)に配列形成されている。また、x軸と直交するy軸方向に、露光量モニタパターン101を挟んで一対のy軸方向位置ずれ量検出用パターン105(105a,b)が形成されている。露光量モニタパターン101は、開口パターン102と、このパターンに対してx軸方向に接続し、透過する露光光の照射強度分布がx軸方向に単調に変化する強度変化パターン103とから形成されている。
請求項（抜粋）：
一方向に配列形成された少なくとも3個のパターンを具備し、少なくと1個のパターンは透過した露光光の照射強度分布が前記一方向に対して単調に変化する強度変化パターンを一つ以上含むことを特徴とする露光量モニタマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 Z
, H01L 21/30 516 D
2H095BA01
, 2H095BA07
, 2H095BB02
, 2H095BC09
, 2H095BE03
, 2H095BE06
, 5F046AA17
, 5F046BA04
, 5F046CA04
, 5F046DA02
, 5F046DA11
, 5F046EB01
, 5F046EB02
, 5F046EB06
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)
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