特許
J-GLOBAL ID：200903055768423100
誘導されたトポグラフィおよび導波路効果を減少させるための位相シフト・マスクおよびプレーナ位相シフト・マスク用の埋め込み型エッチング停止部
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 岩本 行夫
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-005757
公開番号（公開出願番号）：特開2004-226967
出願日： 2004年01月13日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：
【課題】位相シフトマスクの製造において、基板を掘り込んで位相差を形成するためのエッチングマスクを提供する。【解決手段】位相差を形成するためのエッチングスマスク300はガラスもしくは石英の層310、エッチング停止層380、ポリマー層330、ハードマスク320より構成される。レジストプロセスをした後、ハードマスク320をパターニングし、ポリマー層330をエッチングした後、エッチング停止層380を除去する。このエッチングマスクを用いてガラスもしくは石英の層310をエッチングして180°の位相差を形成する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
リソグラフ投影装置に使用するためのパターニング・デバイスであって、
ガラスもしくは石英の層、
樹脂製ポリマーの層、および
ガラスもしくは石英の層と樹脂製ポリマー層の間のエッチング停止層を含み、樹脂製ポリマー層にパターンが形成され、かつパターンに相当する領域でガラスもしくは石英の層と樹脂製ポリマー層の間にエッチング停止層が設けられないパターニング・デバイス。
IPC (3件)：
G03F1/08
, G03F7/20
, H01L21/027
G03F1/08 A
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502P
2H095BB03
, 2H095BB06
, 2H095BB14
