ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-160137
公開番号（公開出願番号）：特開平10-010699
出願日： 1996年06月20日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：

【要約】【課題】安定した光学特性とパターン形状が得られやすい埋め込み式ハーフトーン型位相シフトマスクとその製造方法を提供する。【解決手段】透明基板1に凹部3を形成し、該凹部3に半透明層4を設けたハーフトーン型位相シフトマスクであって、以下の工程を含むことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法である。1)透明基板1上にレジストパターン2を形成し、該レジストパターン2をマスクとして透明基板1をエッチング加工して凹部3を形成する工程。2)前記レジストパターン2及び凹部3が形成された透明基板1全面に所望の厚さの半透明層4を堆積する工程。3)前記レジストパターン2及びレジストパターン2上の半透明層4を除去して凹部3にのみ半透明層4を形成する工程。

請求項（抜粋）：

透明基板に凹部を形成し、該凹部に半透明層を設けたことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 A , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (5件)

減衰移相マスクおよび製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-024295 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
フオトマスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-256121 出願人：日本電気株式会社
特開平4-371951

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