特許
J-GLOBAL ID：200903055824310933

エッチング残渣を除去するための組成物基板及びその使用

発明者：
エグベ, マシュー

エグベ, マシュー について


出願人/特許権者：
エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド

エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド について


代理人 (2件)： 安富 康男 ,  野田 慎二
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-539901
公開番号（公開出願番号）：特表2006-501327
出願日： 2003年09月26日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
特定の有機溶媒及びフッ素ソースを含む組成物は、フォトレジスト及びエッチング残渣を除去できる。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト及びエッチング残渣を除去するのに適切な組成物であって、 a)少なくとも約50重量%の、テトラフルフリルアルコール、ジアセトンアルコール、1,4-シクロヘキサンジメタノール及びアルキレングリコールエーテルからなる群より選択される溶媒; b)約0.005〜約0.8重量%のフッ素ソース; c)上限約49.9重量%の水;及び、 d)上限約20重量%の腐食抑制剤を含む ことを特徴とする組成物。
IPC (8件)：
C11D 7/60 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/10 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/027
FI (9件)：
C11D7/60 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  G03F7/42 ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/30 572B
Fターム (17件)：
2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096HA23 ,  2H096LA03 ,  4H003DA15 ,  4H003DB01 ,  4H003EA05 ,  4H003EA18 ,  4H003EB13 ,  4H003ED02 ,  4H003ED28 ,  4H003ED29 ,  4H003ED30 ,  4H003ED31 ,  4H003FA15 ,  5F046MA02 ,  5F046MA06
引用特許：
審査官引用 (4件)
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