特許
J-GLOBAL ID：200903055859708832
ポリ塩化ビフェニールの脱塩素化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中山 光子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-333929
公開番号（公開出願番号）：特開2004-201701
出願日： 2002年11月18日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：
【課題】脱塩素化が困難なポリ塩化ビフェニール(PCB)を、短時間で安全に大量に脱塩素化して無毒化することができ、より低コストで実用上可能な脱塩素化方法を提供する。【解決手段】ポリ塩化ビフェニールと水素供与体とを含む反応系に、アルカリ化合物及び無機系触媒の存在下でマイクロ波を照射することにより、外部から水素を供給することなく、ポリ塩化ビフェニールを脱塩素化する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
ポリ塩化ビフェニールと水素供与体とを含む反応系に、アルカリ化合物及び無機系触媒の存在下でマイクロ波を照射することを特徴とするポリ塩化ビフェニールの脱塩素化方法。
IPC (5件)：
A62D3/00
, B01J19/12
, C07B35/06
, C07B37/06
, C07C25/18
A62D3/00
, B01J19/12 A
, C07B35/06
, C07B37/06
, C07C25/18
2E191BA13
, 2E191BC01
, 2E191BC05
, 2E191BD00
, 2E191BD13
, 4G075AA37
, 4G075BA05
, 4G075CA26
, 4G075CA54
, 4H006AA05
, 4H006AC13
, 4H006AC26
, 4H006BA26
, 4H006BA55
, 4H006BA95
, 4H006BE10
